constant variant enhancement 恒变增加
, v' D( u. H) ], ?% uconstantan 康铜(铜镍合金)
5 P/ }( v" Q8 d4 @3 b6 s9 J# ~constitutional diagram 组合图' Z- `! o+ W! u4 I
constraint 约束，制约& s; e# A- Z. ^# Z/ g3 ^
constriction (1)颈缩(二)集聚- n" N! i; ^) Q. s8 E9 M3 A
constrigence 倒色散率
) ]/ x5 }; u `4 m; Jconstringence 倒色散系数
3 ]* z, Q" V: gconstruction of image 作图求像法1 v" y2 b( a& K$ L) M
constructive interference 相长干涉3 G1 r4 d: J- s0 ~
constructive reflection 相长反射
* W) y$ F n, [3 I1 g, g9 s5 l% Wconsumption 消耗量，消耗率
: b+ s4 K5 P3 i5 e& Gcont-down (1)递减计数(2)漏失计数
% o4 @( q$ L+ H* P( n; Dcontact (1)接触(二)触点
& W: n+ @3 V( `* Ccontact angle 接触角8 v5 I9 M/ I* j5 ]
contact blocking 光胶7 Y! N& o5 M. X; j. h& N6 {
contact fluid 接触液
$ y7 ? n! {; kcontact fluorography 接触式萤光摄影机- `1 O0 F( [# P, ~4 C G
contact for flash unit 闪光灯触点
9 y- V, d7 [/ V0 R4 o8 Y: Xcontact for flash-auto control 闪光灯自控触点wｗw.ExamＷ.CoM4 g0 z/ z' k a8 R
contact interferometer 接触干涉仪3 C' r! X; G* b6 {; `- U1 ]9 h
contact lens 接触透镜: ^/ Q6 X" [. t' \
Contact lens inserter/remover 隐形眼镜置入器/移除器
( T; {8 }) D: U* {& Jcontact microradiography 接触式辐射显微术
7 E4 R8 t/ w1 d& mcontact presistance 接触电阻% C& y, W0 [5 b' v/ f
contact printing 接触印片 |
发表于 2012-8-14 22:56:05
