chemical microscope 化学用显微 + Z7 \& ]( S2 L3 X
chemical microsocopy 化学显微术 n, A& B* \$ }- Q# v( O
chemical pumping 化学抽运 2 _3 C! Y2 U& S/ ~* i* O, g* v
chemical stability 化学稳定性
- p( N3 t _9 Z2 X3 P4 Ochemical vapor deposition (cvd)化学汽相淀积 * F# A* u( m" k: S
chemical vapor deposition (CVD) ) A) T$ G" Q/ g7 U# H% F
equipment 化学气相沉积法设备(CVD) ( u: Q9 {* [5 w+ u
chemical vapor phase oxidation process 化学汽相氧化法
6 k' J, g' c( p, J# \( Achemical vapor deposition 化学汽相淀积 7 j: D- p; U r# l$ W
chemical-constant 化学平衡 ) r- [% R2 a O" l& Z9 j, ]
chemically excited olecule laser 化学受激分子激光器
* ~! _. p- o' w" O9 m6 V3 ?chemically pumped molecular laser 化学抽运分子激光器 * w, V8 K1 f0 i G
chemichromatography 化学反应色谱法 # z/ a3 L9 I" L) x
chemiluminescence 化学发光,化学荧光 ) y+ k# a, e8 |; |, l$ Q- p* \
chemiluminescnet reaction 化学发光反应
) `/ q' {1 A/ P9 h* `chemisorptiobn 化学吸附
0 @' s( q* H4 [: r8 Schemisorption 化学吸附
5 j/ l5 @: H+ w J; c& z8 _3 xchemistry 化学 7 M/ `' i0 k, H) G
chemluminescent 化学发光的,化学荧化的
$ b4 [$ u$ {7 z$ Q+ Ychemosphere 化学层
0 ~, r, {9 a0 j2 g1 dchest 箱,柜,盒 ! K, m% a$ ~( r2 H* e4 w2 ]
Chevalier lens 薛瓦利透镜,双合透镜 * O6 Q" u% r5 X7 Z$ e( P; Q8 T5 [
Chi Mei Optoelectronics Corp 奇美光电 9 m8 t. W; {/ m" y5 h4 ]+ ?
chiaroscuro 明暗变化,明暗对照
# A! M; p+ Q$ t9 l; Zchief ray 主光线
6 U& ^- a- x9 ^7 k2 |chief ray of oblique beam 斜光束主光线 2 j7 {9 g: T% k% L" W' S
Childs’s law 智尔德斯定律 ! l7 i/ L% p2 I$ u
chill 激冷,冷凝 ) \* b! s; n7 w# K( f5 h. r+ A. t" z
chiller 冷却器
8 w7 z. ~/ w+ p+ C% Lchilling (1)激冷,冷却(2)淬火
8 b" n/ d/ k; t$ Qchime 谐音,配谐 |